1 はじめに 16
1.1 調査目的 16
1.2 市場定義 17
1.3 調査範囲 17
1.3.1 対象市場と地域範囲 17
1.3.2 対象範囲と除外範囲 18
1.3.3 対象年 18
1.4 対象通貨 18
1.5 対象単位 19
1.6 制限事項 19
1.7 利害関係者 19
1.8 変更の概要 19
2 調査方法 20
2.1 調査データ 20
2.1.1 二次データ 21
2.1.1.1 二次情報源からの主なデータ 22
2.1.1.2 主な二次情報源 22
2.1.2 一次データ 22
2.1.2.1 一次情報源からの主なデータ 23
2.1.2.2 一次インタビューにおける主な参加者 23
2.1.2.3 一次インタビューの内訳 24
2.1.2.4 主な業界の見識 24
2.1.3 二次＆一次リサーチ 25
2.2 市場規模の推定 25
2.2.1 ボトムアップ・アプローチ 27
2.2.1.1 ボトムアップ分析による市場規模の算出方法
（需要側） 28
2.2.2 トップダウン分析による市場規模の算出方法
（供給側） 29
2.3 データトライアングル 30
2.4 リスク評価 31
2.5 調査の前提条件と制限事項 32
2.5.1 調査の前提条件 32
2.5.2 調査の制限事項 32
3 エグゼクティブサマリー 33
4 プレミアムインサイト 36
4.1 EUVリソグラフィ市場における魅力的な機会 36
4.2 EUVリソグラフィ市場：エンドユーザー別 36
4.3 EUVリソグラフィ市場：コンポーネント別 37
4.4 EUVリソグラフィ市場：地域別 37
5 市場概要 38
5.1 はじめに 38
5.2 市場力学 38
5.2.1 促進要因 39
5.2.1.1 先進的な半導体ノードにおけるEUVリソグラフィの採用 39
5.2.1.2 高性能コンピューティングに対する需要の高まり 39
5.2.1.3 集積回路の複雑化 40
5.2.1.4 民生用電子機器の進歩 40
5.2.2 抑制要因 41
5.2.2.1 大規模な先行資本投資の必要性 41
5.2.2.2 先進的なインフラと熟練労働力の必要性 41
5.2.3 機会 42
5.2.3.1 先進的なEUVリソグラフィおよび半導体デバイスへの投資の増加 42
5.2.3.2 新たな用途におけるEUVリソグラフィの展開の拡大 42
5.2.3.3 次世代デバイス向けのメモリモジュールおよびチップ開発の進歩
43
5.2.3.4 視覚体験の向上のための先進的ディスプレイの製品化
43
5.2.3.5 フォトニクスおよび光学製品の製造における先進的パターン形成技術の用途
44
5.2.4 課題 45
5.2.4.1 代替リソグラフィ技術との競争 45
5.2.4.2 高出力と生産性の維持の難しさ 46
5.2.4.3 マスク欠陥と歩留まりの問題の検出と対処 46
5.3 バリューチェーン分析 47
5.3.1 研究開発エンジニア 48
5.3.2 コンポーネントメーカー 48
5.3.3 システムインテグレーター 48
5.3.4 マーケティングおよび販売サービスプロバイダー 48
5.3.5 エンドユーザー 48
5.4 顧客のビジネスに影響を与えるトレンド/混乱 48
5.5 生態系分析 49
5.6 技術分析 51
5.6.1 主要技術 51
5.6.1.1 光源 51
5.6.1.2 EUVマスク 52
5.6.2 補完技術 52
5.6.2.1 マスクペリクル 52
5.6.2.2 プラズマ発生 52
5.6.3 隣接技術 53
5.6.3.1 極端紫外線反射率測定法（EUVR） 53
5.6.3.2 原子層蒸着法（ALD） 53
5.7 投資と資金調達シナリオ 54
5.8 価格分析 54
5.8.1 EUVリソグラフィシステムの平均販売価格 55
5.8.2 地域別平均販売価格の傾向、2020年～2023年 55
5.9 ケーススタディ分析 56
5.9.1 インテルは独占的な高NA EUVマシンを確保
5.9.2 LAMはASMLと協力してEUVリソグラフィを促進するドライレジスト技術を開発
5.9.3 TSMCは生産能力を高めるためにEUVシステムを買収
5.10 特許分析 58
5.11 貿易分析 60
5.11.1 輸入シナリオ（HSコード8442） 60
5.11.2 輸出シナリオ（HSコード8442） 61
5.12 ポーターのファイブフォース分析 63
5.12.1 競争の激しさ 64
5.12.2 新規参入の脅威 64
5.12.3 代替品の脅威 64
5.12.4 買い手の交渉力 64
5.12.5 供給業者の交渉力 64
5.13 主要な利害関係者と購買基準 65
5.13.1 購買プロセスにおける主要な利害関係者 65
5.13.2 購買基準 66
5.14 関税と規制の概観 66
5.14.1 関税分析 66
5.14.2 規制当局、政府機関、
その他の組織 67
5.14.3 規制 68
5.15 2024年～2025年の主要な会議およびイベント 69
5.16 EUVリソグラフィ市場におけるAI/AIの影響 69
5.16.1 はじめに 69
6 EUVリソグラフィ市場、コンポーネント別 71
6.1 はじめに 72
6.2 光源 73
6.2.1 商用システムにおけるLPP EUV光源の採用拡大が市場を牽引 73
6.3 光学 73
6.3.1 EUV光学の高精度＆高確度化が採用を促進 73
6.4 マスク 74
6.4.1 次世代半導体デバイスの開発が市場を牽引 74
6.5 その他 74
7 EUVリソグラフィ市場、エンドユーザー別 76
7.1 はじめに 77
7.2 統合型デバイス製造企業 78
7.2.1 成長を促進する先進的でエネルギー効率の高いマイクロチップおよびICSの開発に重点を置く 78
7.3 ファウンドリ 80
7.3.1 ファウンドリによるEUVリソグラフィの採用を促進する半導体ノードの革新 80
8 EUVリソグラフィ市場、地域別 83
8.1 はじめに 84
8.2 南北アメリカ 85
8.2.1 強力な半導体エコシステムの存在が
市場成長を促進する 85
8.2.2 アメリカ大陸のマクロ経済の見通し 86
8.3 ヨーロッパ 87
8.3.1 ドイツ、オランダ、フランスによる市場成長強化のための戦略的R&D投資
市場成長を強化するためのドイツ、オランダ、フランスによる研究開発への戦略的投資 87
8.3.2 ヨーロッパのマクロ経済見通し 88
8.4 アジア太平洋地域 89
8.4.1 アジア太平洋地域のマクロ経済見通し 89
8.4.2 中国 92
8.4.2.1 先進的な半導体生産能力が
市場成長を促進する高度な半導体生産能力 92
8.4.3 日本 93
8.4.3.1 市場成長を促進する強力な半導体エコシステム 93
8.4.4 韓国 93
8.4.4.1 EUVリソグラフィの進歩が半導体のイノベーションを促進 93
8.4.5 台湾 94
8.4.5.1 エコフレンドリーなEUVシステムコンポーネントへの多額の投資が成長を促進 94
8.4.6 アジア太平洋地域その他 95
9 競争状況 96
9.1 概要 96
9.2 主要企業の戦略/2023年から2024年の勝利の権利 96
9.3 収益分析、2021年～2023年 98
9.4 市場シェア分析、2023年 98
9.5 企業評価および財務指標 101
9.6 企業評価マトリクス：主要企業、2023年 102
9.6.1 スター 103
9.6.2 新興リーダー 103
9.6.3 普及したプレーヤー 103
9.6.4 参加者 103
9.6.5 企業規模：主要プレーヤー、2023年 105
9.6.5.1 企業拠点 105
9.6.5.2 地域拠点 106
9.6.5.3 コンポーネント拠点 107
9.6.5.4 エンドユーザー拠点 108
9.7 企業評価マトリクス：新興企業/中小企業、2023年 109
9.7.1 進歩的な企業 109
9.7.2 対応力のある企業 109
9.7.3 ダイナミックな企業 109
9.7.4 スタート地点 109
9.7.5 ベンチマークによる競争力評価：スタートアップ企業/中小企業、2023年 111
9.7.5.1 スタートアップ/中小企業の詳細リスト 111
9.7.5.2 スタートアップ/中小企業の競合ベンチマーキング 111
9.8 競合シナリオ 112
9.8.1 製品発売 112
9.8.2 取引 112
10 企業プロフィール 113
ASML (Netherlands)
Carl Zeiss AG (Germany)
NTT Advanced Technology Corporation (Japan)
KLA Corporation (US)
ADVANTEST CORPORATION (Japan)
Ushio Inc. (Japan)
SUSS MicroTec SE (Germany)
AGC Inc. (Japan)
Lasertec Corporation (Japan)
TOPPAN Inc. (Japan)
Energetiq Technology, Inc. (Japan)
NuFlare Technology Inc. (US)
Photronics, Inc. (Japan)
HOYA Corporation (Japan)
TRUMPF (Germany)
Rigaku Holdings Corporation (Japan)
Edmund Optics Inc. (US)
Imagine Optic (France)
Applied Materials, Inc. (US)
Park Systems (South Koria)
EUV Tech (US)
Mloptic Crop. (China)
MKS Instruments (US)
Brooks Automation (US)
Pfeiffer Vacuum GmbH (Germany)
11 付録 157
11.1 業界専門家による洞察 157
11.2 ディスカッションガイド 158
11.3 KnowledgeStore: MarketsandMarketsの購読ポータル 160
11.4 カスタマイズオプション 162
11.5 関連レポート 162
11.6 著者詳細 163
Continuing advances in consumer electronics increase demand for extreme ultraviolet lithography markets. With an increase in thinner, more powerful, energy-efficient devices, the usage of extreme ultraviolet lithography also increases. Advanced functionality with high performance is achieved using a smaller semiconductor chip in modern smartphones, smartwatch, laptops, and also a whole smart home device. EUVL has the ability to etch extremely intricate patterns down at nanometer scales, making it absolutely necessary to produce next-generation chips.
The increasing deployment of technologies such as 5G, artificial intelligence (AI), and augmented reality/virtual reality rises the demand for high-performance processors, memory chips, and other semiconductor components, which in turn increases the need for EUV systems. Consumer expectations for longer battery life, faster processing speeds, and sleek designs also reinforce the trend towards miniaturization, which EUV lithography facilitates. Also, in the quest for technological superiority among leading consumer electronics brands, investments in advanced semiconductor manufacturing processes fuel the growth of the EUV lithography market. In this interaction between innovation in consumer electronics and semiconductor fabrication, the EUV lithography stands out as a key to future technologies.
“South Korea is projected to grow at the highest CAGR during the forecast period from 2024-2029”
The South Korean region is expected to have the highest compound annual growth rate (CAGR) for the EUV lithography market over the forecast period due to the country's leadership in semiconductor manufacturing and aggressive investments in advanced lithography technologies. South Korea is also the home of some of the world's largest makers of semiconductors, notably Samsung and SK Hynix, key adopters of EUV for producing high-performance chips at such advanced nodes as 5nm and lower.
The government of South Korea considers the development of a robust ecosystem of semiconductors with considerable support in terms of finance and with policy incentives to reduce imports and thus establish a stronger position in markets around the world. Moreover, South Korean manufacturers are under rising pressure from the increasing demands of AI, 5G, IoT, and automotive applications in both home and international markets.
Continuous collaborations with EUV equipment vendors, such as ASML, will provide South Korean fabs with the most advanced lithography tools. The strategic move of South Korea to scale up EUV lithography, in addition to the semiconductor industry's push toward smaller, more energy-efficient, and powerful chips, drives the market to the robust CAGR in the region.
In-depth interviews have been conducted with chief executive officers (CEOs), Directors, and other executives from various key organizations operating in the EUV lithography market.
The break-up of the profile of primary participants in the EUV lithography market-
• By Company Type: Tier 1 – 30%, Tier 2 – 50%, Tier 3 – 20%
• By Designation Type: C Level Executive – 25%, Directors – 35%, Others – 40%
• By Region Type: Americas – 25%, Europe –35 %, Asia Pacific– 40%
The major players in the EUV lithography market are ASML (Netherlands), Carl Zeiss AG (Germany), NTT Advanced Technology Corporation (Japan), KLA Corporation (US), ADVANTEST CORPORATION (Japan), Ushio Inc. (Japan), SUSS MicroTec SE (Germany), AGC Inc. (Japan), Lasertec Corporation (Japan), TOPPAN Inc. (Japan), Energetiq Technology, Inc. (Japan), NuFlare Technology Inc. (US), Photronics, Inc. (Japan), HOYA Corporation (Japan), TRUMPF (Germany), Rigaku Holdings Corporation (Japan), Edmund Optics Inc. (US), Imagine Optic (France), Applied Materials, Inc. (US), Park Systems (South Koria), EUV Tech (US), Mloptic Crop. (China), MKS Instruments (US), Brooks Automation (US), and Pfeiffer Vacuum GmbH (Germany).
Research Coverage
The report segments the EUV lithography market and forecasts its size by region. It also comprehensively reviews drivers, restraints, opportunities, and challenges influencing market growth. The report covers qualitative aspects in addition to quantitative aspects of the market.
This report has categorized the EUV lithography market by component (light sources, optics, masks, others), end user (integrated device manufacturers, foundries), and region (Americas, Europe, and Asia Pacific)
Reasons to buy the report:
The report will help the market leaders/new entrants in this market with information on the closest approximate revenues for the overall EUV lithography market and related segments. This report will help stakeholders understand the competitive landscape and gain more insights to strengthen their position in the market and plan suitable go-to-market strategies. The report also helps stakeholders understand the objectives of the market and provides information on key market drivers, restraints, opportunities, and challenges.
The report provides insights on the following pointers:
• Analysis of key drivers (adoption of EUV lithography for advanced semiconductor nodes), restraint (significant upfront capital investment in EUV lithography), opportunity (rising investments in advanced EUV lithography and semiconductor devices), and challenges (competition from alternative lithography techniques)
• Product Development/Innovation: Detailed insights on upcoming technologies, research & development activities, and new product launches in the EUV lithography market
• Market Development: Comprehensive information about lucrative markets – the report analyses the EUV lithography market across varied regions.
• Market Diversification: Exhaustive information about new products, untapped geographies, recent developments, and investments in the EUV lithography market
• Competitive Assessment: In-depth assessment of market shares, growth strategies, and product offerings of leading players like KLA Corporation (US), Carl Zeiss AG (Germany), TRUMPF (Germany), TOPPAN Inc. (Japan), and AGC Inc. (Japan).
❖ 世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場に関するよくある質問(FAQ) ❖
・極端紫外線（EUV）リソグラフィの世界市場規模は？
→MarketsandMarkets社は2024年の極端紫外線（EUV）リソグラフィの世界市場規模を121.8億米ドルと推定しています。
・極端紫外線（EUV）リソグラフィの世界市場予測は？
→MarketsandMarkets社は2029年の極端紫外線（EUV）リソグラフィの世界市場規模を226.9億米ドルと予測しています。
・極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の成長率は？
→MarketsandMarkets社は極端紫外線（EUV）リソグラフィの世界市場が2024年～2029年に年平均13.2%成長すると予測しています。
・世界の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場における主要企業は？
→MarketsandMarkets社は「ASML (Netherlands)、Carl Zeiss AG (Germany)、NTT Advanced Technology Corporation (Japan)、KLA Corporation (US)、ADVANTEST CORPORATION (Japan)、Ushio Inc. (Japan)、SUSS MicroTec SE (Germany)、AGC Inc. (Japan)、Lasertec Corporation (Japan)、TOPPAN Inc. (Japan)、Energetiq Technology, Inc. (Japan)、NuFlare Technology Inc. (US)、Photronics, Inc. (Japan)、HOYA Corporation (Japan)、TRUMPF (Germany)、Rigaku Holdings Corporation (Japan)、Edmund Optics Inc. (US)、Imagine Optic (France)、Applied Materials, Inc. (US)、Park Systems (South Koria)、EUV Tech (US)、Mloptic Crop. (China)、MKS Instruments (US)、Brooks Automation (US)、Pfeiffer Vacuum GmbH (Germany)など ...」をグローバル極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の主要企業として認識しています。
※上記FAQの市場規模、市場予測、成長率、主要企業に関する情報は本レポートの概要を作成した時点での情報であり、納品レポートの情報と少し異なる場合があります。
