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Stratistics MRCによると、半導体用両面露光機の世界市場は予測期間中にCAGR 5.5%で成長する見込みである。半導体の生産に使用される専用ツールは、半導体用両面露光機として知られている。これは、ウェハーのフォトレジストコーティングされた表面に複雑な回路パターンを投影するために、高度な光学系と光源を採用している。その精度と効率は、ナノスケールの特徴と正確なアライメントが最先端の電子デバイスを成功裏に製造するために最も重要である半導体製造に求められる高い水準を維持するために不可欠です。
UMCによると、この工場はシンガポールで最も先進的な半導体ファウンドリーのひとつでもあり、22nmと28nmのチップを生産する予定だという。
市場のダイナミクス：
ドライバー
先端半導体の需要増
両面露光機は、5G、エッジコンピューティング、電気自動車を含むこれらの新技術の要件を満たす半導体の製造を可能にします。これらの継続的な技術進歩は、自動車、ヘルスケア、通信を含む様々な産業で実装されています。さらに、これらのアプリケーションに必要な高密度・高性能チップの製造にも貢献し、市場の拡大を後押ししている。
拘束：
高コスト
製造業者、特に小規模の製造業者は、これらの高度なシステムの資本集約的な性質のために、財務上の問題に直面している。競争が限定的であることは、価格高騰の一因となりうる。加えて、現在進行中の技術的進歩が広く採用されることは、業界のコスト感度と要件によって減少する可能性があり、市場の成長を著しく阻害する。
チャンスだ：
3D ICの新たな技術革新
半導体層が垂直に積層された3次元立体集積回路（IC）では、ウェーハの両面で正確かつ同時の露光が要求される。機械学習と人工知能を露光機に組み込むことで、アライメント精度の向上、エラー検出、修正に貢献できる。さらに、これらの技術は全体的な生産性を向上させ、性能向上と小型化のために3D ICへの依存度を高めている進化するエレクトロニクス産業の需要に応えることを目的としており、それによって市場の拡大を牽引している。
脅威だ：
知的財産（IP）に関する問題
特許係争は、新製品開発や市場投入の遅れの原因となる。これらの機械には複雑な技術が使われているため、特許紛争や法的挑戦の影響を受けやすい。法的な曖昧さは、投資家やメーカーにとって困難な環境を作り出し、製品の価格設定や収益性、規制当局からの潜在的な抵抗に影響を与えることで、市場の可能性に影響を与える。さらに、知的財産権に関する懸念は、業界間の協力や買収を減少させ、市場拡大の妨げとなる可能性もある。
コビッド19の影響
半導体用両面露光機市場はCOVID-19パンデミックの悪影響を受けた。製造工程は、施錠や制限、労働力確保の中断、遠隔地での作業上の課題、健康上の懸念などの影響を受け、先端機械の開発や配備の遅れや非効率の一因となった。さらに、渡航制限によって国際的な協力や設置が難しくなり、経済的な課題によって拡張プロジェクトの延期や中止を余儀なくされた企業もあり、市場成長の妨げとなった。
予測期間中、半自動セグメントが最大となる見込み
半自動セグメントが最大のシェアを占めると推定される。これは、精度と露光プロセス効率を向上させる自動化機能を含む高度な自動化機能と手動制御を組み合わせた装置を指し、ある程度の柔軟性と人的制御を提供する。技術の進歩に伴い、これらの装置は進化を続け、精度、スピード、全体的なパフォーマンスを向上させる技術を取り入れ、カスタマイズ可能で適応性の高いプロセスを求める半導体メーカーにとって費用対効果の高いソリューションとなっており、このセグメントの拡大を後押ししている。
予測期間中、フォトリソグラフィ分野のCAGRが最も高くなると予想される
フォトリソグラフィ分野は、複雑な回路パターンを半導体ウェハ上に正確に転写するために必要なデバイスを扱っているため、予測期間中のCAGRが最も高くなると予想されている。EUVリソグラフィ、高解像度イメージング、高度な半導体デバイスなど、複数のパターニング技術の進歩は、通信やエレクトロニクスから人工知能やモノのインターネットのような新興技術に至るまで、幅広いアプリケーションに不可欠である。さらに、これらのデバイスは、ウェーハの両面で同時に正確な位置合わせと露光を保証するために高度な光学的手法を使用しており、これが市場の成長を大きく後押ししている。
最もシェアの高い地域
欧州は、半導体の生産に影響を与える政府の法律や規制により、予測期間中最大の市場シェアを占めていた。欧州連合（EU）は研究、技術、革新を優先し、半導体産業の進歩に有利な環境を作り出している。ドイツ、英国、オランダといった国々が半導体技術開発の最前線にある。政府プログラムおよび学術機関と業界関係者のコラボレーションは、半導体技術革新におけるこの地域のリーダーシップに貢献し、それによってこの地域の成長を後押ししている。
CAGRが最も高い地域：
北米は、近代的な半導体研究、自動化、材料、精密光学の継続的な開発により、予測期間中に最高のCAGRを示すと見られている。Nikon Corporation、ASML Holding NV、Canon Inc.、Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd.などの主要企業が、この地域の卓越した技術開発に貢献している。熟練した専門家と研究施設の強力なエコシステム、機械は、市場拡大を推進している業界の進化するニーズに応えている。
市場の主要プレーヤー
半導体用両面露光機市場の主要企業には、ORC Manufacturing、ウシオライティング、Csun、Canon Inc、Orbotech Ltd、Neutronix Quintel、Idonus Sarl、Seimyung Vactron、Adtec Engineering、ASML Holding N.V.などがある。
主な進展
2023年11月、生産用フォトリソグラフィ装置の大手プロバイダーであるニュートロニックス・クインテル社は、先端アプリケーションに使用されるCTマスクアライナーNxQ 8000の導入を発表した。
2023年10月、プロダクション用インクジェット印刷機のリーダーであるキヤノンは、横浜で開催されたキヤノンエキスポで、毎分170枚のA4判枚葉インクジェット印刷機「Canon varioPRINT iX1700」の技術プレビューを発表した。
2023年9月、独立系ビジュアルコンテンツプロバイダーであるEPA Imagesは、キヤノン・ヨーロッパとの5年間のパートナーシップを発表し、変化する世界における課題に立ち向かうため、写真・ビデオ撮影機器の更新と更新を行う。
対象となるタイプ
– セミオートマチック
– フルオートマチック
対象技術
– フォトリソグラフィ
– 電子ビームリソグラフィ
対象アプリケーション
– 半導体露光
– 半導体パターンアライメント
対象地域
– 北米
米国
カナダ
メキシコ
– ヨーロッパ
o ドイツ
イギリス
o イタリア
o フランス
o スペイン
o その他のヨーロッパ
– アジア太平洋
o 日本
o 中国
o インド
o オーストラリア
o ニュージーランド
o 韓国
o その他のアジア太平洋地域
– 南アメリカ
o アルゼンチン
o ブラジル
o チリ
o その他の南米諸国
– 中東・アフリカ
o サウジアラビア
o アラブ首長国連邦
o カタール
o 南アフリカ
o その他の中東・アフリカ
レポート内容
– 地域レベルおよび国レベルセグメントの市場シェア評価
– 新規参入企業への戦略的提言
– 2021年、2022年、2023年、2026年、2030年の市場データをカバー
– 市場動向（促進要因、制約要因、機会、脅威、課題、投資機会、推奨事項）
– 市場予測に基づく主要ビジネスセグメントにおける戦略的提言
– 主要な共通トレンドをマッピングした競合のランドスケープ
– 詳細な戦略、財務、最近の動向を含む企業プロファイリング
– 最新の技術進歩をマッピングしたサプライチェーン動向
無料カスタマイズの提供：
本レポートをご購入いただいたお客様には、以下の無料カスタマイズオプションのいずれかをご提供いたします：
– 企業プロファイリング
o 追加市場プレーヤーの包括的プロファイリング（3社まで）
o 主要企業のSWOT分析（3社まで）
– 地域セグメンテーション
o 顧客の関心に応じた主要国の市場推定、予測、CAGR（注：フィージビリティチェックによる）
– 競合ベンチマーキング
製品ポートフォリオ、地理的プレゼンス、戦略的提携に基づく主要企業のベンチマーキング
1 エグゼクティブ・サマリー
2 序文
2.1 概要
2.2 ステークホルダー
2.3 調査範囲
2.4 調査方法
2.4.1 データマイニング
2.4.2 データ分析
2.4.3 データの検証
2.4.4 リサーチアプローチ
2.5 リサーチソース
2.5.1 一次調査ソース
2.5.2 セカンダリーリサーチソース
2.5.3 前提条件
3 市場動向分析
3.1 はじめに
3.2 推進要因
3.3 抑制要因
3.4 機会
3.5 脅威
3.6 技術分析
3.7 アプリケーション分析
3.8 新興市場
3.9 コビッド19の影響
4 ポーターズファイブフォース分析
4.1 供給者の交渉力
4.2 買い手の交渉力
4.3 代替品の脅威
4.4 新規参入の脅威
4.5 競争上のライバル
5 半導体用両面露光機の世界市場：タイプ別
5.1 はじめに
5.2 半自動
5.3 全自動
6 半導体用両面露光機の世界市場：技術別
6.1 はじめに
6.2 フォトリソグラフィー
6.3 電子ビームリソグラフィ
7 半導体用両面露光機の世界市場：用途別
7.1 はじめに
7.2 半導体露光
7.3 半導体パターンアライメント
8 半導体用両面露光機の世界市場：地域別
8.1 はじめに
8.2 北米
8.2.1 米国
8.2.2 カナダ
8.2.3 メキシコ
8.3 ヨーロッパ
8.3.1 ドイツ
8.3.2 イギリス
8.3.3 イタリア
8.3.4 フランス
8.3.5 スペイン
8.3.6 その他のヨーロッパ
8.4 アジア太平洋
8.4.1 日本
8.4.2 中国
8.4.3 インド
8.4.4 オーストラリア
8.4.5 ニュージーランド
8.4.6 韓国
8.4.7 その他のアジア太平洋地域
8.5 南米
8.5.1 アルゼンチン
8.5.2 ブラジル
8.5.3 チリ
8.5.4 その他の南米地域
8.6 中東・アフリカ
8.6.1 サウジアラビア
8.6.2 アラブ首長国連邦
8.6.3 カタール
8.6.4 南アフリカ
8.6.5 その他の中東・アフリカ地域
9 主要開発
9.1 契約、パートナーシップ、提携、合弁事業
9.2 買収と合併
9.3 新製品上市
9.4 事業拡大
9.5 その他の主要戦略
10 会社プロファイル
10.1 ORCマニュファクチャリング
10.2 ウシオライティング
10.3 Csun
10.4 キヤノン
10.5 オルボテック
10.6 ニュートロニクス・クインテル
10.7 イドナス社
10.8 セイミョンバクトロン
10.9 アドテックエンジニアリング
10.10 ASMLホールディングN.V.
表一覧
1 半導体用両面露光機の世界市場展望、地域別 (2021-2030) ($MN)
2 半導体用両面露光機の世界市場展望、タイプ別 (2021-2030) ($MN)
3 半導体用両面露光機の世界市場展望：半自動タイプ別 (2021-2030) ($MN)
4 半導体用両面露光機の世界市場展望：全自動タイプ別 (2021-2030) ($MN)
5 半導体用両面露光機の世界市場展望：技術別 (2021-2030) ($MN)
6 半導体用両面露光機の世界市場展望：フォトリソグラフィー別 (2021-2030) ($MN)
7 半導体用両面露光機の世界市場展望：電子ビームリソグラフィ別 (2021-2030) ($MN)
8 半導体用両面露光機の世界市場展望、用途別 (2021-2030) ($MN)
9 半導体用両面露光機の世界市場展望、半導体露光別 (2021-2030) ($MN)
10 半導体用両面露光機の世界市場展望：半導体パターンアライメント別 (2021-2030) ($MN)
11 北米半導体用両面露光機の市場展望、国別 (2021-2030) ($MN)
12 北米半導体用両面露光機の市場展望、タイプ別 (2021-2030) ($MN)
13 北米半導体用両面露光機の市場展望：半自動タイプ別 (2021-2030) ($MN)
14 北米半導体用両面露光機の市場展望：全自動タイプ別 (2021-2030) ($MN)
15 北米半導体用両面露光機の市場展望：技術別 (2021-2030) ($MN)
16 北米半導体用両面露光機の市場展望：フォトリソグラフィー別 (2021-2030) ($MN)
17 北米半導体用両面露光機の市場展望：電子ビームリソグラフィ別 (2021-2030) ($MN)
18 北米半導体用両面露光機の市場展望、用途別 (2021-2030) ($MN)
19 北米半導体用両面露光機の市場展望、半導体露光別 (2021-2030) ($MN)
20 北米半導体用両面露光機の市場展望：半導体パターンアライメント別 (2021-2030) ($MN)
21 欧州 半導体用両面露光機の市場展望、国別 (2021-2030) ($MN)
22 半導体用両面露光機のヨーロッパ市場展望：タイプ別 (2021-2030) ($MN)
23 欧州の半導体用両面露光機の市場展望：半自動タイプ別 (2021-2030) ($MN)
24 欧州の半導体用両面露光機の市場展望：全自動タイプ別 (2021-2030) ($MN)
25 半導体用両面露光機のヨーロッパ市場展望：技術別 (2021-2030) ($MN)
26 欧州の半導体用両面露光機の市場展望：フォトリソグラフィー別 (2021-2030) ($MN)
27 半導体用両面露光機のヨーロッパ市場展望：電子ビームリソグラフィ別 (2021-2030) ($MN)
28 半導体用両面露光機のヨーロッパ市場展望：用途別 (2021-2030) ($MN)
29 半導体用両面露光機のヨーロッパ市場展望：半導体露光別 (2021-2030) ($MN)
30 欧州半導体用両面露光機の市場展望、半導体パターンアライメント別 (2021-2030) ($MN)
31 アジア太平洋地域半導体用両面露光機の市場展望、国別 (2021-2030) ($MN)
32 アジア太平洋地域 半導体用両面露光機の市場展望、タイプ別 (2021-2030) ($MN)
33 アジア太平洋地域の半導体用両面露光機の市場展望：半自動タイプ別 (2021-2030) ($MN)
34 アジア太平洋地域の半導体用両面露光機の市場展望：全自動 (2021-2030年)別 ($MN)
35 アジア太平洋地域の半導体用両面露光機の市場展望：技術別 (2021-2030) ($MN)
36 アジア太平洋地域の半導体用両面露光機の市場展望：フォトリソグラフィー別 (2021-2030) ($MN)
37 アジア太平洋地域の半導体用両面露光機の市場展望：電子ビームリソグラフィ別 (2021-2030) ($MN)
38 アジア太平洋地域の半導体用両面露光機の市場展望、用途別 (2021-2030) ($MN)
39 アジア太平洋地域の半導体用両面露光機の市場展望、半導体露光別 (2021-2030) ($MN)
40 アジア太平洋地域半導体用両面露光機の市場展望、半導体パターンアライメント別 (2021-2030) ($MN)
41 南米半導体用両面露光機の市場展望、国別 (2021-2030) ($MN)
42 南米半導体用両面露光機の市場展望、タイプ別 (2021-2030) ($MN)
43 南米半導体用両面露光機の市場展望：半自動タイプ別 (2021-2030) ($MN)
44 南米半導体用両面露光機の市場展望：全自動タイプ別 (2021-2030) ($MN)
45 南米半導体用両面露光機の市場展望：技術別 (2021-2030) ($MN)
46 南米半導体用両面露光機の市場展望：フォトリソグラフィー別 (2021-2030) ($MN)
47 南米半導体用両面露光機の市場展望：電子ビームリソグラフィ別 (2021-2030) ($MN)
48 南米半導体用両面露光機の市場展望、用途別 (2021-2030) ($MN)
49 南米半導体用両面露光機の市場展望、半導体露光別 (2021-2030) ($MN)
50 南米半導体用両面露光機の市場展望、半導体パターンアライメント別 (2021-2030) ($MN)
51 中東・アフリカ 半導体用両面露光機の市場展望、国別 (2021-2030) ($MN)
52 中東・アフリカ 半導体用両面露光機の市場展望：タイプ別 (2021-2030) ($MN)
53 中東・アフリカ 半導体用両面露光機の市場展望：半自動タイプ別 (2021-2030) ($MN)
54 中東 & アフリカ 半導体用両面露光機の市場展望：全自動 (2021-2030) ($MN)
55 中東・アフリカ 半導体用両面露光機の市場展望：技術別 (2021-2030) ($MN)
56 中東・アフリカ 半導体用両面露光機の市場展望：フォトリソグラフィー別 (2021-2030) ($MN)
57 中東・アフリカ 半導体用両面露光機の市場展望：電子ビームリソグラフィ (2021-2030年) ($MN)
58 中東・アフリカ 半導体用両面露光機の市場展望：用途別 (2021-2030) ($MN)
59 中東・アフリカ 半導体用両面露光機の市場展望：半導体露光 (2021-2030年)別 ($MN)
60 中東・アフリカ 半導体用両面露光機の市場展望：半導体パターンアライメント別 (2021-2030) ($MN)
