世界のフォトリソグラフィ装置市場(2024年~2032年):プロセス別(紫外(UV)、深紫外(DUV)、極端紫外(EUV))、波長別(70nm-1nm、270nm-170nm、370nm-270nm)、デバイス波長別(レーザー生成プラズマ、エキシマレーザー、水銀ランプ)、用途別(フロントエンド、バックエンド)、エンドユーザー別(IDM、ファウンドリー)、地域別

【英語タイトル】Photolithography Equipment Market Report by Process (Ultraviolet (UV), Deep Ultraviolet (DUV), Extreme Ultraviolet (EUV)), Wavelength (70 nm–1 nm, 270 nm–170 nm, 370 nm–270 nm), Device Wavelength (Laser Produced Plasmas, Excimer Lasers, Mercury Lamps), Application (Front-End, Back-End), End Use (IDMs, Foundries), and Region 2024-2032

IMARCが出版した調査資料(IMARC24AUG0486)・商品コード:IMARC24AUG0486
・発行会社(調査会社):IMARC
・発行日:2024年7月
・ページ数:136
・レポート言語:英語
・レポート形式:PDF
・納品方法:Eメール
・調査対象地域:グローバル
・産業分野:電子&半導体
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❖ レポートの概要 ❖

世界のフォトリソグラフィ装置市場規模は、2023年に148億米ドルに達しました。今後、IMARC Groupは、2024~2032年の成長率(CAGR)は7.8%で、2032年には293億米ドルに達すると予測しています。
フォトリソグラフィは、微細加工においてフィルムや基板に幾何学的パターンを転写するプロセスを指します。フォトリソグラフィは、紫外線(UV)ビームを利用して集積回路(IC)にパターンをエッチングします。非常に効率的でコスト効率に優れながら、極めて小さな切り込みを入れることができるため、ナノ粒子や微細なコンピューター・システムの製造、基板の正確なサイズと形状の制御に広く利用されています。現在、世界中で小型化された電子機器におけるフォトリソグラフィ装置の利用が増加しています。

フォトリソグラフィ装置の市場動向:
半導体産業における技術の進歩は、市場を牽引する重要な要因の一つです。さらに、世界中の接続ソリューションを改善するために、5G対応デバイスの需要が急増しています。これは、5Gインフラとデータセンター設備の拡大とともに、市場の成長を刺激しています。また、スマートカー、スマートメーター、M2M(Machine-to-Machine)通信など、コネクテッドデバイスの需要が高まっていることから、IoT(モノのインターネット)の普及が進んでいます。これは、ウェハ製造装置や材料への投資の増加と相まって、業界の投資家に有利な成長機会を提供しています。このほか、自動車、医療機器、民生用電子機器、軍事・防衛機器、航空機、スマート家電などにおける集積回路(IC)の使用量の増加が、市場にプラスの影響を与えています。さらに、主要な市場プレーヤーは、全体的な製造コストと諸経費を削減しながら、精度と生産能力を高めることに注力しています。これらの企業はまた、フォトリソグラフィプロセスを改善するために研究開発(R&D)活動に幅広く投資しており、これにより全体的な売上高と収益性が増大すると予測されています。

主な市場セグメンテーション
IMARC Groupは、フォトリソグラフィ装置の世界市場レポートの各サブセグメントにおける主要動向の分析と、2024年から2032年までの世界、地域、国レベルでの予測を提供しています。当レポートでは、市場をプロセス、波長、装置波長、用途、最終用途に基づいて分類しています。

プロセス別の内訳

紫外線(UV)
深紫外(DUV)
極端紫外線(EUV)

波長別構成比

70 nm-1 nm
270 nm-170 nm
370 nm-270 nm

デバイス波長別ブレークアップ

レーザー生成プラズマ
エキシマレーザー
水銀ランプ

アプリケーション別構成比

フロントエンド
バックエンド

用途別構成比

IDM
ファウンドリ

地域別構成比

北米
米国
カナダ
アジア太平洋
中国
日本
インド
韓国
オーストラリア
インドネシア
その他
ヨーロッパ
ドイツ
フランス
イギリス
イタリア
スペイン
ロシア
その他
ラテンアメリカ
ブラジル
メキシコ
その他
中東・アフリカ

競争環境:
本レポートでは、ASML Holding N.V.、Canon Inc.、Eulitha AG、EV Group、Holmarc Opto-Mechatronics Ltd.、microfab Service GmbH、Neutronix Quintel、Nikon Corporation、NuFlare Technology Inc.(東芝電子デバイス&ストレージ株式会社)、Orthogonal Inc.、Osiris International GmbH、S-Cubed Inc.などの主要企業のプロファイルとともに、業界の競争環境についても調査しています。

本レポートで扱う主な質問
世界のフォトリソグラフィ装置市場はこれまでどのように推移し、今後どのように推移していくのでしょうか?
COVID-19が世界のフォトリソグラフィ装置市場に与えた影響は?
主要地域市場とは?
プロセスに基づく市場の内訳は?
波長に基づく市場の内訳は?
装置波長別の市場構成比は?
アプリケーション別の市場構成比は?
最終用途に基づく市場の内訳は?
業界のバリューチェーンにおける様々な段階とは?
業界の主な推進要因と課題は?
世界のフォトリソグラフィ装置市場の構造と主要プレイヤーは?
業界における競争の程度は?

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❖ レポートの目次 ❖

1 序文
2 調査範囲と方法論
2.1 調査の目的
2.2 ステークホルダー
2.3 データソース
2.3.1 一次情報源
2.3.2 二次情報源
2.4 市場推定
2.4.1 ボトムアップアプローチ
2.4.2 トップダウンアプローチ
2.5 予測方法
3 エグゼクティブ・サマリー
4 はじめに
4.1 概要
4.2 主要産業動向
5 フォトリソグラフィ装置の世界市場
5.1 市場概要
5.2 市場パフォーマンス
5.3 COVID-19の影響
5.4 市場予測
6 プロセス別市場
6.1 紫外線(UV)
6.1.1 市場動向
6.1.2 市場予測
6.2 深紫外線(DUV)
6.2.1 市場動向
6.2.2 市場予測
6.3 極端紫外線(EUV)
6.3.1 市場動向
6.3.2 市場予測
7 波長別市場内訳
7.1 70 nm-1 nm
7.1.1 市場動向
7.1.2 市場予測
7.2 270nm-170nm
7.2.1 市場動向
7.2.2 市場予測
7.3 370nm-270nm
7.3.1 市場動向
7.3.2 市場予測
8 デバイス波長別市場
8.1 レーザー生成プラズマ
8.1.1 市場動向
8.1.2 市場予測
8.2 エキシマレーザー
8.2.1 市場動向
8.2.2 市場予測
8.3 水銀ランプ
8.3.1 市場動向
8.3.2 市場予測
9 アプリケーション別市場
9.1 フロントエンド
9.1.1 市場動向
9.1.2 市場予測
9.2 バックエンド
9.2.1 市場動向
9.2.2 市場予測
10 エンドユース別市場
10.1 IDM
10.1.1 市場動向
10.1.2 市場予測
10.2 ファウンドリ
10.2.1 市場動向
10.2.2 市場予測
11 地域別市場内訳
11.1 北米
11.1.1 米国
11.1.1.1 市場動向
11.1.1.2 市場予測
11.1.2 カナダ
11.1.2.1 市場動向
11.1.2.2 市場予測
11.2 アジア太平洋
11.2.1 中国
11.2.1.1 市場動向
11.2.1.2 市場予測
11.2.2 日本
11.2.2.1 市場動向
11.2.2.2 市場予測
11.2.3 インド
11.2.3.1 市場動向
11.2.3.2 市場予測
11.2.4 韓国
11.2.4.1 市場動向
11.2.4.2 市場予測
11.2.5 オーストラリア
11.2.5.1 市場動向
11.2.5.2 市場予測
11.2.6 インドネシア
11.2.6.1 市場動向
11.2.6.2 市場予測
11.2.7 その他
11.2.7.1 市場動向
11.2.7.2 市場予測
11.3 欧州
11.3.1 ドイツ
11.3.1.1 市場動向
11.3.1.2 市場予測
11.3.2 フランス
11.3.2.1 市場動向
11.3.2.2 市場予測
11.3.3 イギリス
11.3.3.1 市場動向
11.3.3.2 市場予測
11.3.4 イタリア
11.3.4.1 市場動向
11.3.4.2 市場予測
11.3.5 スペイン
11.3.5.1 市場動向
11.3.5.2 市場予測
11.3.6 ロシア
11.3.6.1 市場動向
11.3.6.2 市場予測
11.3.7 その他
11.3.7.1 市場動向
11.3.7.2 市場予測
11.4 中南米
11.4.1 ブラジル
11.4.1.1 市場動向
11.4.1.2 市場予測
11.4.2 メキシコ
11.4.2.1 市場動向
11.4.2.2 市場予測
11.4.3 その他
11.4.3.1 市場動向
11.4.3.2 市場予測
11.5 中東・アフリカ
11.5.1 市場動向
11.5.2 国別市場内訳
11.5.3 市場予測
12 SWOT分析
12.1 概要
12.2 長所
12.3 弱点
12.4 機会
12.5 脅威
13 バリューチェーン分析
14 ポーターズファイブフォース分析
14.1 概要
14.2 買い手の交渉力
14.3 供給者の交渉力
14.4 競争の程度
14.5 新規参入の脅威
14.6 代替品の脅威
15 価格分析
16 競争環境
16.1 市場構造
16.2 主要プレーヤー
16.3 主要プレーヤーのプロフィール
16.3.1 ASML Holding N.V.
16.3.1.1 会社概要
16.3.1.2 製品ポートフォリオ
16.3.2 キヤノン
16.3.2.1 会社概要
16.3.2.2 製品ポートフォリオ
16.3.2.3 財務
16.3.2.4 SWOT分析
16.3.3 オイリタAG
16.3.3.1 会社概要
16.3.3.2 製品ポートフォリオ
16.3.4 EVグループ
16.3.4.1 会社概要
16.3.4.2 製品ポートフォリオ
16.3.5 Holmarc Opto-Mechatronics Ltd.
16.3.5.1 会社概要
16.3.5.2 製品ポートフォリオ
16.3.6 マイクロファブサービスGmbH
16.3.6.1 会社概要
16.3.6.2 製品ポートフォリオ
16.3.7 ニュートロニクス・クインテル
16.3.7.1 会社概要
16.3.7.2 製品ポートフォリオ
16.3.8 株式会社ニコン
16.3.8.1 会社概要
16.3.8.2 製品ポートフォリオ
16.3.8.3 財務
16.3.8.4 SWOT分析
16.3.9 NuFlare Technology Inc.(東芝電子デバイス&ストレージ株式会社)
16.3.9.1 会社概要
16.3.9.2 製品ポートフォリオ
16.3.10 オーソゴナル社(Orthogonal Inc.
16.3.10.1 会社概要
16.3.10.2 製品ポートフォリオ
16.3.11 オシリスインターナショナルGmbH
16.3.11.1 会社概要
16.3.11.2 製品ポートフォリオ
16.3.12 S-Cubed Inc.
16.3.12.1 会社概要
16.3.12.2 製品ポートフォリオ



❖ 世界のフォトリソグラフィ装置市場に関するよくある質問(FAQ) ❖

・フォトリソグラフィ装置の世界市場規模は?
→IMARC社は2023年のフォトリソグラフィ装置の世界市場規模を148億米ドルと推定しています。

・フォトリソグラフィ装置の世界市場予測は?
→IMARC社は2032年のフォトリソグラフィ装置の世界市場規模を293億米ドルと予測しています。

・フォトリソグラフィ装置市場の成長率は?
→IMARC社はフォトリソグラフィ装置の世界市場が2024年〜2032年に年平均7.8%成長すると予測しています。

・世界のフォトリソグラフィ装置市場における主要企業は?
→IMARC社は「ASML Holding N.V.、Canon Inc.、Eulitha AG、EV Group、Holmarc Opto-Mechatronics Ltd.、microfab Service GmbH、Neutronix Quintel、Nikon Corporation、NuFlare Technology Inc. (Toshiba Electronic Devices & Storage Corporation)、Orthogonal Inc.、Osiris International GmbH and S-Cubed Inc.など ...」をグローバルフォトリソグラフィ装置市場の主要企業として認識しています。

※上記FAQの市場規模、市場予測、成長率、主要企業に関する情報は本レポートの概要を作成した時点での情報であり、納品レポートの情報と少し異なる場合があります。

★調査レポート[世界のフォトリソグラフィ装置市場(2024年~2032年):プロセス別(紫外(UV)、深紫外(DUV)、極端紫外(EUV))、波長別(70nm-1nm、270nm-170nm、370nm-270nm)、デバイス波長別(レーザー生成プラズマ、エキシマレーザー、水銀ランプ)、用途別(フロントエンド、バックエンド)、エンドユーザー別(IDM、ファウンドリー)、地域別] (コード:IMARC24AUG0486)販売に関する免責事項を必ずご確認ください。
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